*Ilustrasi sifat inert dan konfigurasi elektron Argon
Argon (Ar) adalah unsur kimia dengan nomor atom 18. Terletak pada golongan 18 tabel periodik, Argon termasuk dalam kelompok gas mulia. Sifatnya yang paling menonjol adalah sifatnya yang sangat inert atau tidak reaktif. Ini disebabkan oleh konfigurasi elektron valensinya yang sudah penuh (oktet sempurna), menjadikannya pilihan utama dalam berbagai aplikasi industri dan ilmiah yang memerlukan lingkungan bebas reaksi.
Salah satu penggunaan argon yang paling signifikan dan meluas adalah sebagai gas pelindung dalam proses pengelasan, terutama TIG (Tungsten Inert Gas) dan MIG (Metal Inert Gas). Dalam pengelasan, logam yang dipanaskan hingga suhu tinggi sangat rentan terhadap oksidasi oleh oksigen di udara atau reaksi dengan nitrogen. Oksidasi ini dapat melemahkan sambungan las, menghasilkan cacat, atau merusak elektroda.
Gas Argon yang disalurkan di sekitar busur las dan area kerja berfungsi untuk menggantikan udara sekitar. Karena Argon lebih berat daripada udara, ia menciptakan selimut pelindung yang efektif, mencegah kontaminasi. Dalam pengelasan aluminium, stainless steel, dan titanium, Argon sering menjadi pilihan utama karena memberikan stabilitas busur yang baik dan menghasilkan hasil las yang bersih serta berkualitas tinggi.
Meskipun sering diasosiasikan dengan bola lampu pijar modern yang menggunakan gas inert seperti Nitrogen atau campuran gas, Argon memiliki peran historis dan spesifik dalam teknologi pencahayaan. Bola lampu pijar lama sering diisi dengan campuran Argon dan Nitrogen untuk mengurangi laju penguapan filamen tungsten pada suhu operasi tinggi, memperpanjang umur lampu. Selain itu, lampu *flash* fotografi berkecepatan tinggi dan beberapa jenis lampu khusus lainnya memanfaatkan sifat inert Argon untuk memastikan pelepasan energi yang terkontrol tanpa merusak komponen internal.
Industri semikonduktor menuntut tingkat kemurnian yang ekstrem karena kontaminasi sekecil apapun dapat merusak wafer silikon. Argon kelas ultra-tinggi digunakan secara ekstensif dalam pembuatan semikonduktor. Argon digunakan sebagai gas pembawa dalam proses pengendapan uap kimia (CVD) dan sebagai gas pelindung selama proses penanaman ion (implantation) dan pemurnian. Kemampuannya untuk tidak bereaksi dengan bahan-bahan sensitif sangat krusial untuk menjaga integritas sirkuit mikro.
Di lingkungan laboratorium, Argon digunakan untuk menciptakan atmosfer inert. Ini penting dalam penelitian kimia, terutama ketika menangani senyawa yang sangat reaktif terhadap udara atau kelembaban, seperti reagen organologam atau logam alkali. Penggunaan wadah bertekanan Argon memastikan bahwa eksperimen dilakukan di bawah kondisi yang terkontrol secara ketat, memungkinkan ilmuwan untuk mempelajari reaksi kimia tanpa interferensi eksternal.
Selain itu, Argon cair (pada suhu sangat rendah) kadang digunakan sebagai pendingin (kriogenik) dalam beberapa instrumen ilmiah tertentu, meskipun Helium lebih umum digunakan untuk suhu terendah ekstrem. Namun, sifatnya yang tidak radioaktif dan tidak beracun menjadikannya alternatif yang aman dan mudah ditangani dalam banyak aplikasi pendinginan skala laboratorium.
Argon adalah gas yang relatif melimpah di atmosfer Bumi, menyusun sekitar 0,93% volume udara kering. Meskipun demikian, memisahkannya dari udara memerlukan proses distilasi fraksional kriogenik yang intensif energi, yang membuatnya relatif lebih mahal daripada Nitrogen. Karena Argon tidak terlibat dalam reaksi kimia di atmosfer dan bukan merupakan gas rumah kaca yang signifikan, kehadirannya di lingkungan relatif stabil dan tidak menimbulkan masalah polusi langsung seperti banyak gas industri lainnya. Produksi utamanya bergantung pada fasilitas pemisahan udara skala besar.
Secara keseluruhan, penggunaan Argon didorong oleh satu sifat utama: inertnessnya. Dari melindungi logam cair di pabrik baja hingga menjaga kemurnian di ruang bersih semikonduktor, peran Argon sebagai "penghalang" yang andal menjadikannya komponen vital dalam teknologi modern yang menuntut presisi tinggi dan lingkungan bebas reaksi.